微弧氧化处理因可在铝镁钛锆等阀金属表面获得高硬度，良好的耐蚀性，优异生物相容性，绿色环保等特点的陶瓷层而在表面处理领域得越来越广泛的应用。但微弧氧化处理是一个相当复杂的过程，在高温高压下涉及到化学反应，电化学反应，等离子反应等反应类型，因此对于其机理的研究比较困难，成为中外学者研究的难点。至今为止，仍没有一个完整的理论可以完美的解释各种现象，对其机理的研究仍需要更进一步的深入和探索。本文设计了一个实验方案，利用扫描电子显微镜（SEM），X射线衍射（XRD）和能谱仪（EDS）等分析手段，通过对铝微弧氧化膜的元素分布，氧化膜/溶液界面和氧化膜/基体界面的形貌，以及微弧氧化膜层的组成相的详细研究，探究了微弧氧化过程中氧化膜的演变，通过对其演化的分析得到了整个微弧氧化过程的氧化膜的生长规律，并且在基本生长规律的基础上得到整个微弧过程中的氧化膜生长机理，将均匀致密微弧氧化氧化膜出现之前的生长分为均匀沉积，缺陷处生长，氧化膜击穿，气体击穿及均匀化生长五个阶段。