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该论文采用双槽法制备了Cu/Co纳米多层膜,考察了工艺条件对电沉积过程的影响.论文还采用单槽法制备了Cu/Co纳米多层膜,考察了电沉积条件对电镀过程的影响,确定了最佳工艺条件.多层膜断面扫描电镜测试结果表明镀层为清晰的层状结构.论文首次采用双槽法制备Ni-Co/Ni-Co-P(纳米晶/非晶)多层膜,并通过扫描电镜对其进行表征.