氧化隔是一种宽禁带直接带隙化合物半导体。传统上CdO薄膜被广泛的应用于透明电极,航天器或汽车上的透明加热层,仪器窗口上的防静电涂层,玻璃和白炽灯泡上的热反射镜,抗反射涂层,气敏传感器,显示器等。CdO薄膜具有很多优点,如生长温度低,可在室温下获得结晶取向的高迁移率的薄膜、由于薄膜中存在大量的间隙Cd原子和氧空位作为浅施主,因此CdO薄膜有很高的载流子浓度,同时CdO薄膜的禁带宽度在太阳可见光辐射区,可以作为Si,CdTe,CuLnSe₂（CIS）等太阳能电池的窗口材料,光敏探测器等电子器件。 本文总结了目前广泛研究的透明导电薄膜材料。对CdO薄膜的各种生长技术及原理进行了综述和展望。利用反应磁控溅射首次成功的在室温下有机衬底（聚对苯二甲酸乙二醇乙脂PET（Polyethylene terephthalate））和玻璃衬底上制备了结晶取向的CdO薄膜,并利用X射线衍射仪、Hall测试仪,紫外—可见光谱仪,场发射扫描电镜等对CdO薄膜的结构性能和光学性能进行了测试和分析,并研究了氧气含量、衬底温度、溅射功率、溅射时间等参数对CdO薄膜性能的影响。 利用Zn靶以及ZnAl合金靶与Cd靶溅射时间比例不同实现了对Zn_xCd_1-xO薄膜和Zn_xCd_1-xAl_yO薄膜的禁带宽度的连续调节,研究了不同掺杂含量对CdO薄膜光电性能的影响。同时研究了热处理温度对Zn_xCd_1-xO薄膜和Zn_xCd_1-xAl_yO薄膜的性能的影响并得到最佳掺杂含量和热处理温度。