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焦化苯是重要的化工原料,但所含的杂质噻吩因能引起金属设备腐蚀、催化剂中毒以及污染环境而极大地限制了其进一步使用的范围,因此必须对其进行深度脱硫净化。吸附法脱硫技术因具有操作简单、能耗低、设备投资小、脱硫精度高等优点,被用于焦化苯中噻吩的深度脱除。该技术中,吸附剂的再生是其在工业生产中能否顺利实施的关键环节之一故本文在课题组前期研究工作的基础上,对优选出的脱除噻吩性能优异的CeY分子筛吸附剂进行热再生的行为考察,主要进行了操作的工艺条件的优化和再生机理的探讨。首先考察了吸附纯噻吩的CeY吸附剂(TY)的再生,分别在Ar、H2、O2和空气气氛下探讨了再生温度对TY再生行为的影响,并通过热重、质谱、碳硫分析等表征手段,初步探讨了不同气氛、不同温度下TY的再生机理。结果表明,TY在空气气氛、500℃下再生的效果最好,再生后其脱硫效率为94.02%,可达到新鲜吸附剂的94.67%。再生后吸附剂中碳和硫含量是影响吸附剂再生后脱硫性能的主要因素之一。再生温度太低,吸附剂碳和硫含量较高；再生温度太高,则会破坏吸附剂的孔结构,这些都会造成其吸附性能下降。纯O2气氛下再生,吸附剂的结构破坏严重；H2气氛下再生有利于吸附剂上S的释放；Ar和空气气氛下再生吸附剂脱附的产物基本相同,但脱附温度区间及产物的量有很大差别,其中空气气氛下再生的效果最好。在上述基础上,进一步探讨了再生温度、空速、氧含量及再生时间对吸附了苯中噻吩的CeY吸附剂(TBY)再生的影响,优化再生条件。结果表明,再生温度是影响吸附剂再生性能的主要因素,空速、O2含量及再生时间对再生后吸附剂的脱硫性能影响较小；最佳再生条件为：500℃、空速1000h-1、空气气氛、再生时间1h,此时再生后的TBY的脱硫效率为96.44%。采用上述最佳再生条件,对CeY吸附剂进行固定床吸附一再生循环实验,结果表明经吸附一再生3次后,CeY吸附剂的穿透吸附量仍能达到新鲜吸附剂的72.00%,其中吸附剂中碳和硫的含量是影响吸附剂脱硫性能下降的主要因素。