如今社会的发展离不开人工智能及各种高精尖芯片的开发。作为国家的软实力,精细图案的制造转移是不可缺少的技术工艺。光刻便是实现精细图案化的有力手段。在光刻过程中,光刻胶是微电子技术微细图形加工中必不可少的材料之一。虽然我国在这一方面有着巨大的市场需求,但就高端市场而言,我国自主生产力较低,每年有70%以上的光刻胶来源于进口市场,且在一些设备上我们受到了进口限制,所以现在急需一种简便、普适的光刻图案化方法。为了达到这一目的,我们提出了可控的动态响应性光刻胶涂层及其光刻应用的想法。目前,具有可控纳米结构的功能性薄膜已经被成功引入到多种应用需求中。虽然已经研发出了多种方式来取得具备结构色且可以控制调节的聚合物薄膜,但很少有方法能够简单直接地实现多彩复杂图案的表达及其动态控制。在本研究中,我们提出了一类简单有效的多彩图案化普适性方法。具体研究内容及结果如下:一、将具有光活性的叠氮基团通过酰胺反应引入到阴离子聚丙烯酸（PAA）上,合成具有光敏性的聚丙烯酸叠氮衍生物（PAA-N3）,通过层层自组装方式将其与阳离子聚乙烯亚胺（PEI）组装成膜,在硅片基底上制备出（PEI/PAA-N3）n光敏涂层。这种薄膜可在405nm激光光源下发生光交联反应,且具备环境响应性,即可通过酸溶液调整控制其光交联区与非交联区的形貌变化。我们探索并优化了其响应条件,为后续图案化应用奠定了基础。二、采用无掩膜的405nm激光直写设备在（PEI/PAA-N3）n光敏涂层上进行图案化构造。通过灰度直写模式,输入带有灰度值的图片后,即可在PEI/PAA-N3多层膜上用不同灰阶相对应的能量进行光交联,酸显影后,薄膜各个部位呈现不同的厚度,在光的物理作用下,薄膜出现多彩的图案。结合薄膜的环境响应性及聚电解质链在水分子作用下有较强的流动性,可使图案在不同处理条件下反复隐匿或重现,实现图案的可逆可视循环。通过这种方法我们已经在（PEI/PAA-N3）6膜上成功做出了多彩的万花筒图案,且实现该图案的多次可逆循环。这项工作利用激光直写的方式,无需掩模版,简化了光刻步骤。且其多种精细结构色的同时调控表达丰富了信息存储方式,其环境响应特性可在信息的防伪加密等方面有所应用。