滤光片的图形化是许多光学系统与设备小型化、集成化发展的关键问题之一,在多光谱成像、探测、信息传感等领域起着重要作用。本文围绕滤光片图形化技术展开,对几种不同的滤光片图形化进行了研究分析,主要涉及如下内容:首先简要介绍了滤光片的常见类型与发展情况,同时也对滤光片图形化的应用领域进行了说明。介绍了常见图形化方法,着重对光刻技术的主要工艺进行了原理阐述,并讨论了各步骤以及参数对滤光片图形化的影响。其次研究了图形化吸收器在航天中的作用,设计了金属-介质结构的可图形化宽波段吸收器膜系,并在离子辅助沉积设备中制备得到宽波段的吸收器,400-1100nm波段平均反射率仅有0.9%,且在50°入射角以内具有很好的角度不敏感性。最后用光刻-湿法刻蚀的方法图形化得到了双轴太阳敏感器的掩膜玻璃。然后,研究了五通道滤光片的制备及图形化方法。选择双截止组合结构,以TiO2、SiO2为高低折射率介质,设计了可见-近红外五通道的带通滤光片膜系。采用离子辅助沉积技术制备了各个通道的滤光片,滤光片具有良好的陡度和深截止,每个通道透过率在93%以上,且中心波长偏移在3.5nm以内。最后沿用第三章中设计的吸收膜系,对多通道滤光片每个通道窗口区域和对准标记进行了图形化。最后基于阳极氧化铝的多孔结构,提出了一种角度不敏感、颜色可调的微纳结构滤光片。制备得到青品黄三色滤光片,三色滤光片在可见光波段具有良好的颜色纯度,反射率可达到70%左右,并且在45°以内具有良好的角度不敏感性。随后利用Lift-Off技术,在黄色滤光片基础上制备得到青色求是鹰图案的双色滤光片,进一步展示了该结构的滤光片光谱调整的简易性。