ZrO<,2>薄膜生长及其工艺对微结构的影响

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【摘要】

：

ZrO2具有高熔点(2608℃)、较高的介电常数和折射率,在可见和近红外区域有很高的透明度,同时具有良好的机械性能和化学惰性,其激光损伤阈值也较高,是一种很好的光学薄膜材料。目前镀制大尺寸光学元件比较成熟的制备手段是电子束蒸发沉积镀膜技术。随着激光应用朝高功率、高能量方向发展,对光学元件提出了越来越高的要求,有必要进一步改善光学薄膜的质量。本文研究了电子束蒸发镀膜技术的工艺条件对ZrO2薄膜微观结

【作者】

：

陈松林

【机构】

：

四川大学

【发表日期】

：

2004年05期

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