硅基微纳光学阵列元件的约束刻蚀加工研究

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今天,随着微机电系统(MEMS)的迅速发展,微型化、集成化、智能化已成为科学技术中最为重要的发展趋势。微系统将成为21世纪最具挑战性的科学技术领域之一,它将使人类认识世界、改造世界的能力产生巨大的突破。近年来,利用电化学加工方法进行微纳米尺度加工作为新兴的高新技术,已成为令人瞩目的极具潜力的技术进步之一。电化学微细加工方法因其具有适用材料范围广、加工无应力、表面质量高、环境要求低、分辨率高以及加工成本低等优势,在加工复杂三维微纳结构中具有巨大的潜力。约束刻蚀剂层技术(CELT),于1992年
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