激光化学气相沉积法石墨烯制备系统关键技术研究

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石墨烯(Graphene,GP)是六方蜂窝状的二维碳原子晶体,结构独特、性质卓越。在石墨烯被发现的短短几年内,其优异的力学、光学、热学、电学性质的相继发现激发了石墨烯潜在的应用价值,其合成、制备方法也在不断地探索完善。目前常用制备方法的有着不同程度的缺陷,且无法与半导体工艺兼容,石墨烯的微区制备及层数控制仍存在诸多技术难点,基于此,本文通过在石墨烯制备工艺中引入激光技术,采用激光化学气相沉积法(Laser-chemical vapor deposition,LCVD)对石墨烯制备工艺进行探索,主要工作有:1、为了石墨烯的高效制备,本文基于LCVD法制备石墨烯原理及实验室现有装置基础,进行了 LCVD法制备石墨烯装置的优化设计,主要包括管路设计、控制系统设计及监测系统设计并对应的进行了自动监控软件的设计。2、为了提高石墨烯制备过程中的激光能效,本文设计了基于两点法的激光束散角测量实验进行光束束散角检测,并针对检测结果设计对应的光束整形方案、选型光学元件、加工光机结构,有效压缩了激光束散角。3、为了辅助监测石墨烯制备过程中激光聚焦状态,本文在监测软件的基础上进行了光斑监测算法的设计,以优化的基于最小二乘法的圆拟合算法为基础,检测获得了光斑中心位置及大小,为实验提供了有效辅助。4、本文使用Cu箔作为生长基底,在自行设计搭建的LCVD实验平台上进行石墨烯制备,在不同制备条件下得到多组样品并进行拉曼测试结果对比,分析了石墨烯生成机理、条件、样品质量及存在的问题。本文采用LCVD法进行石墨烯的制备,结果分析表明,当激光器移动速率选择为20,P=3W;前期腔压小于1OmTorr,制备时保持500mTorr左右;气体流速VH2=10sccm,VCH4=5sccm时可以制备得到少层石墨烯薄膜,且可以通过对实验条件的控制实现对石墨烯的层数、质量及生长区域进行有效的把控,有效的优化了石墨烯制备工艺,为实现石墨烯图案化制备、石墨烯与半导体的集成奠定了工艺基础。
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