【摘 要】
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由于单晶硅在各种高pH值的碱性溶液（如:EPW,KOH,NH4OH,TMAH等）中表现出各向异性的腐蚀特性,因此在微电子学,微光学,微机械系统领域,体硅微机械技术得到广泛应用。在硅的微细加
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由于单晶硅在各种高pH值的碱性溶液（如:EPW,KOH,NH4OH,TMAH等）中表现出各向异性的腐蚀特性,因此在微电子学,微光学,微机械系统领域,体硅微机械技术得到广泛应用。在硅的微细加工中,在制作方面KOH工艺生产成本低,可重复,因此KOH是在硅的各项异性腐蚀中最常用的一种碱性溶液。本文研究了KOH各向异性腐蚀硅片的原理及硅在碱性溶液中各向异性腐蚀的机理模型,同时研究了KOH各向异性湿法对硅片进行背部减薄的实验,并用机械研磨法对硅片背部进行减薄,对比总结了两者实验结果并分析了影响表面现象的原因。
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