太赫兹波段AlGaN/GaN共振隧穿二级管研究

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共振隧穿二极管(RTD)工作频率高,能产生太赫兹频波,受到了强烈的关注,而GaAs、InP材料制作的RTD比较成熟,且最近实验中报道,室温下GaInAs/AlAs RTD工作在1.08THz,输出功率5.5μW,这是迄今观察到的RTD最高振荡频率。随着通信对大功率的要求,GaN等材料的功率优势凸现出来,因此GaN基RTD最近受到大量关注。然而因AlGaN/GaN异质结有强烈的极化效应,且GaN及其异质结材料中存在大量的缺陷,它们对RTD的电流特性影响至关重要,所以到目前为止,GaN基RTD直流特性很不稳定,且会随着测量次数增加而衰退,更无法得到稳定的太赫兹波。鉴于此,本文重点考虑了界面陷阱对AlGaN/GaN RTD的影响,对其直流特性进行了相关研究,并建立其SPICE器件模型,首次得到GaN RTD的交流特性。主要研究成果如下:   1)总结了当今GaN RTD领域的发展现状和主要问题,研究了RTD的工作原理及其各种电流模型和电路模型。同时,对比了GaN相对于GaAs用于RTD制造的优势,最突出的优势就是室温下的输出功率,GaN基RTD能输出mW级,而GaAs RTD却在μW级。   2)详细研究了势垒势阱变化,发射区掺杂浓度变化,发射区Spacer变化,势垒Al组分变化在对GaN RTD器件直流特性的影响。   3)重点研究界面陷阱这一关键因素对器件电流的影响,得到一定面缺陷密度下,器件直流特性和负阻特性不会衰退,在一定面电荷密度下,器件负阻特性退化厉害,这对生长器件具有指导意义。   4)提取了GaN RTD的寄生参数,建立了器件的电路模型,通过模型搭建了负阻振荡电路。并首次得到GaN RTD的功率和效率。同时还得到了器件的S参数,为其他参数做拟合准备。   综上,本文对AlGaN/GaN RTD进行了全面研究,并得到在面缺陷密度高于106cm-2器件负阻明显退化,同时得到AlGaN/GaN RTD振荡器的稳定太赫兹波,在143GHz到1THz的输出功率为22mW左右,DC-RF效率为8%左右。
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