硫化钨纳米结构制备及光学性质研究

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【摘要】

：

单层WS_2具有超薄的厚度、高载流子迁移率、低电阻率、高开关比等优点,在光电子器件和谷极化器件等方面具有重要的应用价值。大面积高质量的单层薄膜是开发WS_2基光电器件的重要前提。本论文针对高质量单层WS_2薄膜制备及其光学性质进行研究,取得如下结果:(1)利用低熔点钨源,以化学气相沉积法在SiO2/Si衬底上获得了高发光质量的单层2H-WS_2三角片,其629.7 nm处发光峰半峰宽为18 nm(

【作者】

：

周敬博

【机构】

：

长春理工大学

【发表日期】

：

2017年03期

【关键词】

：

化学气相沉积法单层WS2 拉曼光谱光致发光光谱

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