射频磁控溅射ZnO：Al薄膜及其特性研究

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【摘要】

：

ZnO:Al(AZO)薄膜因其低电阻率与高可见光区透射率有望替代ITO,成为主要的透明导电氧化物(TCO)材料。相对于ITO材料,AZO薄膜原材料丰富,价格低廉且无污染,是理想的透明导电氧化物材料。目前用以制备AZO薄膜的方法有多种,其中磁控溅射技术因其高的沉积速率与均匀性被认为是重要的制备AZO薄膜的技术之一。本论文利用射频磁控溅射技术,以ZnO:Al_2O_3(2 wt%Al_2O_3)为靶材

【作者】

：

刘著光

【机构】

：

厦门大学

【发表日期】

：

2008年05期

【关键词】

：

透明导电氧化物薄膜 AZO薄膜射频磁控溅射

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