深度光刻计算机模拟及实验研究

来源 :中国科学技术大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cin_long

【摘要】

：

深度光刻是LIGA工艺的核心技术之一,是获得高精度大高度比微结构的关键工艺.随着LIGA技术在微电子机械系统加工工艺中的广泛应用,尤其是在生物科学技术领域的广泛应用,深度光刻技术也越来越成为研究应用的热点.然而对于深度光刻的研究,系统的理论模拟分析还未见报道.该文对接近式深度光刻进行了深入模拟研究.

【作者】

：

田学红

【机构】

：

中国科学技术大学

【出处】

：

中国科学技术大学

【发表日期】

：

2003年期

【关键词】

：

深度光刻计算机模拟技术领域微电子机械系统应用加工工艺生物科学模拟研究模拟分析光刻技术关键工艺微结构接近式高精度高度比理论

【基金项目】

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