钢基表面射频磁控溅射法制备BN薄膜

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氮化硼(Boron Nitride,即BN)由于具有优异的热稳定性、化学惰性、很高的热导率,在高温下也具有良好的润滑性,所以氮化硼薄膜尤其是立方氮化硼薄膜的制备成为近几年材料界研究的热点之一。本文通过射频磁控溅射的方法,在40Cr和T10钢的表面获得了氮化硼薄膜。通过X射线衍射、傅立叶红外光谱分析、摩擦磨损和划痕等试验研究了溅射工艺参数、中间层等对薄膜结构和性能的影响。研究结果表明氮化硼薄膜随着温度的升高,薄膜逐渐晶化并且可以得到立方相的氮化硼,溅射气压为0.8P
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