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系统分析了分层压印准LIGA工艺中对准系统的误差来源,给出了相应的消减误差的措施,并对经过畸变校正、自动聚焦及环境保障后对准系统的套印精度进行了实验研究,结果表明系统套印精度达到1.5μm,可以满足分层压印准LIGA工艺制作微米级微结构对准的需要。
分层压印准LIGA工艺中对准系统误差分析和实验研究
【摘 要】
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系统分析了分层压印准LIGA工艺中对准系统的误差来源,给出了相应的消减误差的措施,并对经过畸变校正、自动聚焦及环境保障后对准系统的套印精度进行了实验研究,结果表明系统套印精度达到1.5μm,可以满足分层压印准LIGA工艺制作微米级微结构对准的需要。
【机 构】
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西安理工大学机械与精密仪器工程学院,桂林电子科技大学机电工程学院,西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
【出 处】
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装备制造技术
【发表日期】
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2010年01期
【基金项目】
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广西制造系统与先进制造技术重点实验室开放基金项目（桂科能07109008_025_K）.
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