论文部分内容阅读
基于Hopkins公式，研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度，并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型．应用部分相干光的传播理论，研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播，进而得到光刻胶表面的光强分布．阻此为基础，分析了由于掩模与光刻胶之间光的衍射效应而产生的光刻微结构的图形失真．给出了理论模型的计算模拟结果，并用实验对该理论模型的计算结果进行了验证．