电感耦合等离子体质谱法测定高纯镓中痕量杂质

来源 :分析化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：IBMWiki

【摘要】

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采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)测定高纯镓中痕量杂质元素,以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应,采用异丙醚萃取分离镓与ICP -MS技术联用,拓展分析方法应用范围,可满足9

【作者】

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岳晓云蔡绍勤邵荣珍刘玉龙鲁亦强

【机构】

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北京有色金属研究总院,北京科技大学

【出处】

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分析化学

【发表日期】

：

2001年11期

【关键词】

：

电感耦合等离子体质谱高纯镓杂质基体效应内标溶剂萃取痕量分析半导体材料 inductively coupled plasma mass spectr

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采用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)测定高纯镓中痕量杂质元素,以Rh作为内标补偿校正镓基体的抑制效应,采用异丙醚萃取分离镓与ICP -MS技术联用,拓展分析方法应用范围,可满足99.9999%～99.99999%超高纯镓分析方法要求.方法检出限为0.006～0.062 μg/L;加标回收率为86.8%～121.4%之间;RSD为1.1%～ 8.6%.

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