【摘 要】
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以镓钛共掺杂氧化锌（GTZO）陶瓷靶作为溅射源材料,采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了GTZO透明导电薄膜,通过X射线衍射仪（XRD）、可见-紫外光分光光度计和四探针仪等测试表征,
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以镓钛共掺杂氧化锌（GTZO）陶瓷靶作为溅射源材料,采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了GTZO透明导电薄膜,通过X射线衍射仪（XRD）、可见-紫外光分光光度计和四探针仪等测试表征,研究了基片温度对GTZO薄膜晶体结构、电学性质和光学性能的影响.结果表明：所制备的GTZO薄膜均为六角纤锌矿结构,并具有（002）择优取向,其结晶质量、晶粒尺寸、方块电阻、透过率、光学能隙以及品质因数都与基片温度密切相关,当基片温度为350℃时,GTZO薄膜的品质因数最大,具有最佳的光电综合性能.
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