Ti-O薄膜的溅射刻蚀微形貌表面对内皮细胞生长的影响

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【摘要】

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利用磁控溅射合成具有一定特性的Ti-O薄膜,并采用Ar离子溅射刻蚀该薄膜表面.运用原子力显微镜(AFM),X射线衍射(XRD)对刻蚀后的薄膜表面微观形貌、微结构进行表征.结果表明:薄

【作者】

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田仁来黄楠陈俊英冷永祥王露

【机构】

：

西南交通大学

【出处】

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功能材料

【发表日期】

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2004年z1期

【关键词】

：

磁控溅射刻蚀 Ti-O薄膜表面形貌内皮细胞

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(30300087),国家重点基础研究规划项目(G1999064705)

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利用磁控溅射合成具有一定特性的Ti-O薄膜,并采用Ar离子溅射刻蚀该薄膜表面.运用原子力显微镜(AFM),X射线衍射(XRD)对刻蚀后的薄膜表面微观形貌、微结构进行表征.结果表明:薄膜的结构未发生变化,表面的粗糙度减小.进一步的人脐静脉内皮细胞(HUVEC)种植实验表明:表面粗糙度的变化对内皮细胞的贴附、生长与增殖有很大的影响.

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