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采用脉冲激光沉积法制备了纳米Ge／Al2O3相嵌薄膜，用X射线光电子谱（XPS）研究了薄膜的热稳定性．结果表明纳米Ge颗粒的氧化态与已经发表的结果不同，而与Si的氧化态的结果相似．用纯高斯函数拟合可以得到Ge的四种不同的氧化态，分别为：Ge^＋1，Ge^＋2，Ge^＋3，Ge^＋4．这种大的差别来自纳米Ge颗粒的不同环境的影响．在真空退火条件下，由于缺少外部氧的供给和供给速度慢，很奇妙地，在薄膜表层的Ge^＋2，Ge^＋4氧化态不如其他氧化态和未氧化态（Ge^0）稳定，而在清洁的大气环境退火条件下，外部氧