【摘 要】
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关于超高真空规的校正方法, Little Whitney[1]曾用场发射电镜中,钨单晶表面上吸附有气体后,以其图像改变为依据,作为校正B-A型真空规的方法,但未见从理论上给以说明。 有关
【机 构】
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中国科学院化学研究所 北京市100080
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关于超高真空规的校正方法, Little Whitney[1]曾用场发射电镜中,钨单晶表面上吸附有气体后,以其图像改变为依据,作为校正B-A型真空规的方法,但未见从理论上给以说明。 有关干净金属表面上的化学吸附动力学理论,在 Hayward 和 Trapnell著作[2]中有三种类型。1是一个吸附分子
Regarding the correction method of ultrahigh vacuum gauge, Little Whitney [1] once used the field emission electron microscope to adsorb gas on the surface of tungsten single crystal, and based on its image change, Explain theoretically. The theory of chemical adsorption kinetics on clean metal surfaces has three types in Hayward and Trapnell’s book [2]. 1 is an adsorbate molecule
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