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介绍了压力和压差控制在MOCVD系统[1]中的作用,比较了两种不同的压力和压差控制技术的优缺点,解析了国际上此类设备中压力和压差控制有关技术特点,以及用国产质量流量控制器和压力、压差传感器为主要部件研制的压力、压差控制器,在ZnO生长的MOCVD设备中良好的效果.
MOCVD系统中压力和压差控制技术研究
【摘 要】
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介绍了压力和压差控制在MOCVD系统[1]中的作用,比较了两种不同的压力和压差控制技术的优缺点,解析了国际上此类设备中压力和压差控制有关技术特点,以及用国产质量流量控制器
【机 构】
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南昌大学材料科学研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
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2004年7期
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