低能电子光刻的蒙特卡罗模拟

来源 :现代科学仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户：gg106419

【摘要】

：

Electron beam lithography(EBL)has been playing an important role in the fabrication of large-scale integrated semiconductor devices because of its high resoluti

【作者】

：

张增明肖沛陈套孙霞丁泽军

【机构】

：

中国科技大学

【出处】

：

现代科学仪器

【发表日期】

：

2006年z1期

【基金项目】

：

This work is supported by the National Natural Science Foundation of China(Grant Nos.10574121,90206009and90406024),Natural Science Foundation of Anhui Province of China(Grant No.05021015)and Elitist F

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Electron beam lithography(EBL)has been playing an important role in the fabrication of large-scale integrated semiconductor devices because of its high resolution.Although high-energy electrons are widely employed in the present EBL system,high-energy ele

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