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二氧化锡薄膜的最佳掺杂含量理论表达式
二氧化锡薄膜的最佳掺杂含量理论表达式
来源 :电子器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:abcd494895936
【摘 要】
:
二氧化锡薄膜应用广泛。本文讨论掺锑和掺氟的二氧化锡透明导电薄膜的最佳掺杂含量问题,建立模型并给出理论表达式,得出的最佳掺杂含量值与实验数据相符。
【作 者】
:
范志新
陈玖琳
孙以材
【机 构】
:
河北工业大学应用物理系
【出 处】
:
电子器件
【发表日期】
:
2001年2期
【关键词】
:
二氧化锡
最佳掺杂含量
薄膜
半导体材料
transparent conductive films
optimum doping content
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二氧化锡薄膜应用广泛。本文讨论掺锑和掺氟的二氧化锡透明导电薄膜的最佳掺杂含量问题,建立模型并给出理论表达式,得出的最佳掺杂含量值与实验数据相符。
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