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新思科技公司（Synopsys，Inc．）与上海集成电路研发中心有限公司（ICRD）Et前宣布共同建立“ICRD—Synopsys先进工艺技术联合实验室”，该实验室将致力于提升中国半导体产业的先进制造能力。联合实验室将结合双方已有的技术优势和产业资源，从对先进节点（advancednode）工艺具有重要影响的光学临近效应修正（OPC）的仿真模型及验证程式出发，共同研究和开发与高阶工艺相关的各项技术。