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磷化铟单晶衬底的缺陷控制和高质量表面制备
磷化铟单晶衬底的缺陷控制和高质量表面制备
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hudongfei
【摘 要】
:
分析研究了一些缺陷对InP单晶衬底的影响,包括团状结构位错的产生及其对晶格完整性的影响,坑状微缺陷、晶片抛光损伤和残留杂质的清洗腐蚀等.对这些缺陷的形成原因和抑制途径进
【作 者】
:
赵有文
董志远
孙文荣
段满龙
杨子祥
吕旭如
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2006年12期
【关键词】
:
磷化铟
缺陷
衬底
抛光
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分析研究了一些缺陷对InP单晶衬底的影响,包括团状结构位错的产生及其对晶格完整性的影响,坑状微缺陷、晶片抛光损伤和残留杂质的清洗腐蚀等.对这些缺陷的形成原因和抑制途径进行了分析.在此基础上获得了“开盒即用(EPI-READY)”、具有良好晶格完整性、表面无损伤的InP单晶衬底抛光片.
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