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通过组合长波通和短波通膜堆的方法,设计并制备了一种大入射角容差宽带薄膜偏振器。该薄膜为HfO/SiO2结构,采用无离子束辅助的电子束蒸发工艺,蒸发金属铪和SiO2制得。对该膜的透射率光谱、激光损伤阈值和形貌进行了研究,结果显示其不仅在1044~1084nm波段内都具有很高的对比度,而且在1064nm波长、53°~60°的入射角范围内具有很大的消光比和激光损伤阈值,且损伤特性基本不随入射角变化。该偏振器的P光损伤阈值约为20J/cm,损伤主要由基板与薄膜界面处的纳米级缺陷所引起;S光损伤