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【摘 要】
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扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL 系统的技术特点，介绍了国内外SBIL 技术的发展现状，并针对SBIL 系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结，着重分析了各关键技术已有解决方法的基本原理、优点以及存在的局限性，结合具体的光栅应用要求，给出了各关键技术的相应具体指标，展望了其发展趋势。
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海201800中国科学院大学,北京100049
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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2015年52期
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