半导体器件表面沾污问题的分析

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半导体表面态的严重问题是表面沾污。本文总结了表面沾污的主要来源,杂质类型,然后从理论上分析了表面沾污引起半导体器件质量退化的物理机构。认为只有从加强企业管理和采用工艺技术措施两方面同时入手,才能有效地预防和控制表面沾污。 A serious problem with semiconductor surface states is surface contamination. This paper summarizes the main sources of contamination on the surface and types of impurities. Then, the physical mechanism of surface degradation caused by surface contamination is analyzed theoretically. Think that only from the strengthening of enterprise management and the introduction of process technology measures both at the same time, in order to effectively prevent and control surface contamination.
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