切换导航
文档转换
企业服务
Action
Another action
Something else here
Separated link
One more separated link
vip购买
不 限
期刊论文
硕博论文
会议论文
报 纸
英文论文
全文
主题
作者
摘要
关键词
搜索
您的位置
首页
期刊论文
离子源的溅射特性及其对ZnS薄膜折射率的影响
离子源的溅射特性及其对ZnS薄膜折射率的影响
来源 :西安工业学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaobudian1980
【摘 要】
:
在离子束辅助镀膜工艺中,离子源工作参数无疑是影响薄膜质量的关键因素.本文对宽束冷阴极离子源溅射特性进行了研究,给出了离子源引出电压与溅射速率的关系.同时研究了离子束
【作 者】
:
徐均琪
刘鹤玲
蔡长龙
杭凌侠
【机 构】
:
西安工业学院
【出 处】
:
西安工业学院学报
【发表日期】
:
2002年2期
【关键词】
:
宽束冷阴极离子源
ZNS薄膜
溅射速率
硫化锌薄膜
离子源
溅射特性
折射率
broad beam cold cathode ion source
ZnS fi
下载到本地 , 更方便阅读
下载此文
赞助VIP
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
在离子束辅助镀膜工艺中,离子源工作参数无疑是影响薄膜质量的关键因素.本文对宽束冷阴极离子源溅射特性进行了研究,给出了离子源引出电压与溅射速率的关系.同时研究了离子束对ZnS薄膜折射率的影响.
其他文献
其他学术论文