【摘 要】
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采用脉冲激光沉积技术（PLD）在单晶Si衬底上制备了ZnO-SiO2复合薄膜。分别用SEM、XRD观察了样品在沉积态（300℃）及700℃和900℃下热退火后的形貌和结构。发现经700℃热处理后,样品
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采用脉冲激光沉积技术（PLD）在单晶Si衬底上制备了ZnO-SiO2复合薄膜。分别用SEM、XRD观察了样品在沉积态（300℃）及700℃和900℃下热退火后的形貌和结构。发现经700℃热处理后,样品中有第三相β-Zn2SiO4形成,经900℃热处理后的样品中硅锌矿型Zn2SiO4取代了β-Zn2SiO4成为第三相。研究了热退火处理前后样品的荧光特性变化,结果表明经700℃热处理后,荧光光谱与沉积态相比,紫外区域的发光强度有较大提高,可见光区域的宽带强度变弱;经900℃热处理后,紫外区域荧光强度与700℃
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