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将冷轧取向硅钢样品在不同退火条件下进行退火，并结合现有的检测手段（FTIR、GD—OES）和Raman光谱分别对最终生成的氧化层进行综合检测分析。研究结果表明，Raman光谱能快速准确地检测出氧化层成分，样品在低氧化性气氛条件（pH2O／pH2=0．288）下，于850oC退火3min后所生成的氧化层成分为SiO2-FeSiO3组织；并且随着反应气氛氧化性的提高（pH2O／pH2增加），氧化层中FeSiO3的含量也随之增多。