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氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景.目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法.文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍.
氮化碳薄膜的制备及研究现状
【摘 要】
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氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景.目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法.文中对氮化碳的
【机 构】
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中国科学院近代物理研究所
【出 处】
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高压物理学报
【发表日期】
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2003年4期
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