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Ta2O5是重要的介电材料和光波导材料。从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展，说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响，对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述，讨论了Ta2O5的生成机理，并对其发展方向作了简要的展望。
化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展
【摘 要】
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Ta2O5是重要的介电材料和光波导材料。从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展，说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响，对这两类前驱体的
【机 构】
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中南大学粉末冶金国家重点实验室
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2006年4期
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