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采用直流磁控溅射（DMS）技术和能量过滤磁控溅射（EFMS）技术在玻璃基底上制备了TiO2薄膜。用TFC膜系设计软件优化设计了单层和双层减反射薄膜,确定制备工艺参数,根据优化结果分别制备了TiO2构成的单层和双层薄膜。利用SEM、椭偏仪、接触角测定仪和光催化测试系统对薄膜进行了表征和测试。实验结果表明：优化设计的膜层都具有良好的减反射性能,单层和双层薄膜在400-800 nm的平均透射率分别为0.845和0.891。氙灯照射30 min后接触角从61.5°变为28°和8°,后