【摘 要】
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薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF_3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.通过研究镀膜过程
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薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF_3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件对 YF_3膜层应力的影响,分析了 YF_3膜层的应力随所选定工艺参数的变化规律.
The choice of film material and its film properties are the basis and premise of optical film technology. YF_3 has higher hardness and lower refractive index, which is a preferred infrared low refractive index material, but there is a defect that the stress of the film after film formation is large.Through researching the baking temperature of the substrate, the energy of the auxiliary ion source, The effect of heat treatment conditions on the stress of YF_3 film was analyzed. The variation of YF_3 film stress with the selected process parameters was analyzed.
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