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用失重法研究了聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）／KH—V6型蒙脱土纳米复合材料的耐H2S04腐蚀行为，并用EDS和SEM分析了腐蚀产物膜。结果表明，质量分数为2％～3％的蒙脱土复合材料发生的是均匀腐蚀，蒙脱土的片层阻隔作用使得PMMA基体的降解行为减弱，腐蚀速率最小，腐蚀膜内外表面出现明显的孔；随蒙脱土质量分数的进一步增加（4％），蒙脱土在PMMA基体中发生聚集，阻隔作用减弱，复合材料的腐蚀速率上升，且在H2SO4的作用下，聚集态的蒙脱土容易从复合材料中分离出来，导致腐蚀产物的内表面出现不光滑的小坑。