【摘 要】
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采用Ti靶和ZrO_( 2)靶在Ar、N_( 2)混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,在不同预处理的基底上沉积制备了一系列的TiN/ZrON周期结构多层膜.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(A
【机 构】
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江苏科技大学材料科学与工程国家级实验教学示范中心,上海激光等离子体研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51702133)
论文部分内容阅读
采用Ti靶和ZrO_( 2)靶在Ar、N_( 2)混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,在不同预处理的基底上沉积制备了一系列的TiN/ZrON周期结构多层膜.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和纳米力学综合测试系统对薄膜的微结构、表面粗糙度和膜基结合力进行研究.结果表明,多层膜的结晶性整体较差,室温下沉积的薄膜多以非晶态形式存在.200℃生长温度下,结晶性略有提高.制备的多层膜均生长致密,颗粒分布较为均匀.在经过腐蚀处理和预镀一定厚度金属Ti层的不锈钢基底上生长的薄膜进行结合力测试.结果表明,增
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