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作为红外窗口的保护层,含氢非晶碳膜（a-C：H）是薄膜材料研究的热点。本文利用中频非平衡磁控溅射技术,以氩气和甲烷混合气体为工作气体,在单晶硅片上沉积含氢的a-C：H膜。改变沉积温度,制备常温和加温到80℃、120℃、150℃四种不同的溅射温度下沉积的a-C：H膜,发现薄膜的表面形貌、纳米硬度与沉积温度的变化不是成简单的线性关系。用Raman和FITR分析了引起a-C：H膜表面形貌和力学性能变化的原因。结果表明,Raman和FITR分析表明基体温度为80℃以上沉积的膜中化学结构是以sp^2键和C-H键非刚