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采用高温硫化处理磁控溅射Mo／Ti金属前驱体薄膜制备Mo硫化物／Ti复合薄膜，采用X射线衍射仪、能谱仪和扫描电子显微镜对复合薄膜的组织结构、化学成分和表面形貌进行分析，采用涂层附着力自动划痕仪和可控气氛球．盘式摩擦磨损试验仪分别测试薄膜与基体的结合力以及摩擦系数，并用扫描电子显微镜观察薄膜的磨损表面形貌，分析其磨损机制．结果表明：硫化温度在450℃以上时能够生成较多Mo硫化物，最佳硫化工艺为450℃×15h；提高硫化温度或延长硫化时间均使薄膜的结合力下降；磁控溅射Mo／Ti前驱体复合薄膜经450