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CDT黑底制作中常见的不良分析及对策
CDT黑底制作中常见的不良分析及对策
来源 :电子器件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nemosan
【摘 要】
:
高亮度高分辨小屏面CDT的黑底制作常见的不良的原因分析及应采取的对策;它有别于一般C DT黑底制作.
【作 者】
:
何宏玉
金兴隆
【机 构】
:
国家特种显示工程技术研究中心
【出 处】
:
电子器件
【发表日期】
:
2002年1期
【关键词】
:
光致抗蚀剂
黑底
荫罩
曝光
彩色显示管
photoresistance
black matrix
shadowmask
expose
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高亮度高分辨小屏面CDT的黑底制作常见的不良的原因分析及应采取的对策;它有别于一般C DT黑底制作.
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