氧化铝复合磨粒对硬盘NiP/Al基板CMP的研究

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：forsoother

【摘要】

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在A12O3表面改性的基础上，制备了以氧化铝、水、双氧水、氢氧化钠溶液为主要成分的抛光液，研究了计算机NiP／Al硬盘盘基片的化学机械抛光（chemicalmechanicalpolis-hing，简称CMP）特

【作者】

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麻鹏飞张萍蒋春东吴疆

【机构】

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四川大学材料科学与工程学院

【出处】

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四川大学学报(自然科学版)

【发表日期】

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2013年5期

【关键词】

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Al2O3抛光液 NiP/Al基板化学机械抛光 A12O3 polishing slurry NiP/A1 basic subsrate CMP

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在A12O3表面改性的基础上，制备了以氧化铝、水、双氧水、氢氧化钠溶液为主要成分的抛光液，研究了计算机NiP／Al硬盘盘基片的化学机械抛光（chemicalmechanicalpolis-hing，简称CMP）特性．通过螺旋测微仪测量了NiP／Al硬盘盘基片表面在不同抛光压力、抛光盘转速、时间、PH值下的材料去除率，利用原子力显微镜AFM表征了抛光后的硬盘盘基片表面粗糙度及形貌，并分析研究了A12O3抛光液的CMP机理．最终得到最佳抛光工艺参数：抛光盘速率为30r／min、抛光压力2．1kPa、抛光时间为

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