【摘 要】
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采用低压等离子体聚合装置,在溴化钾单晶盐片上制备了气压、功率、反式二丁烯（T2B）与氢气流量比3个沉积参数系列的辉光放电聚合物（GDP）涂层。对3个系列涂层各自的红外光谱进行比
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川大学物理科学与技术学院辐射物理及技术教育部重点实验室,中国科学院国际材料物理中心
【基金项目】
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国家高技术“863”计划资助项目
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采用低压等离子体聚合装置,在溴化钾单晶盐片上制备了气压、功率、反式二丁烯（T2B）与氢气流量比3个沉积参数系列的辉光放电聚合物（GDP）涂层。对3个系列涂层各自的红外光谱进行比较分析,结合高斯拟合,定量地讨论涂层内部SP3（CHx）与SP2（CHx）键的相对含量的变化规律,且探讨了各系列沉积参数对气体分子在等离子体发生区的离解效率和沉积过程活性粒子与涂层新生表面及亚表面相互作用的影响。结果表明,在低气压、较高功率和低流量比参数下,GDP涂层内SP3（CH3）和氢元素的含量相对较低,SP2（CH2）和碳元素
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