【摘 要】
:
根据各向异性湿法刻蚀针尖的自锐效应模型和晶面交点模型, 设计了AFM探针针尖加工工艺流程,并进行了针尖加工实验.通过分析实验结果并结合晶面交点模型,分别得到了针尖形状与
论文部分内容阅读
根据各向异性湿法刻蚀针尖的自锐效应模型和晶面交点模型, 设计了AFM探针针尖加工工艺流程,并进行了针尖加工实验.通过分析实验结果并结合晶面交点模型,分别得到了针尖形状与蚀液浓度、刻蚀液温度、添加剂、掩模方向的关系.结合自锐效应模型,得到了(100)硅片刻蚀针尖自锐条件.最后对工艺参数进行了优化,采用15 mol/L的KOH溶液,在70 ℃,并且方形掩模边缘平行于<110>方向,可以得到满足自锐效应的、重复率高、表面粗糙度小、高宽比为1.56的单晶硅针尖.
其他文献
研究了离轴照明对65 nm分辨率ArF浸没式光刻的影响.在3/4环形照明和3/4四极照明方式下,研究65 nm线宽的密集线条、半密集线条、孤立线条在较大曝光系统参数范围内的光刻性能,
提出了电子束真空辐射固化技术新概念,并对该技术的固化机理等进行了阐述.通过对液态低聚物辐射固化条件和SDS-Ⅱ型曝光机的加速电压、曝光剂量等曝光参数的分析研究,得出SDS
采用射频磁控溅射工艺在扩镓硅基上溅射Ga2O3薄膜,再氮化反应组装GaN晶体膜,并对其生长条件进行了研究.用傅里叶红外谱仪(FTIR)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、选区电子衍
采用电火花腐蚀的方法制备了Ni粉.通过X射线衍射、扫描电子显微镜和激光粒度分析仪对不同电流制备的Ni粉的组成、形貌、粒度及其分布进行了分析,结果表明,颗粒的相组成绝大部
超微细电极的获得和工艺过程控制是电化学加工的关键,给出了超微细电极制备及其在高精度三维金属结构加工中的应用研究结果.采用电化学腐蚀法制备微细电极,通过测量回路中的
对工业现场总线--Profibus-DP系统和工业以太网--Hirschmann系统的应用作了说明,详细论述了系统构成以及硬件和软件配置,提出了原料场系统控制方式和智能控制算法.