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可控硅通态饱和压降测量方法的论证
可控硅通态饱和压降测量方法的论证
来源 :电测与仪表 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jiangxiaohui
【摘 要】
:
本文叙述了合理选择RLC回路的参数,能够产生测试所需要的半波正弦脉冲电流,并分析了回路参数RLC对振荡状态的影响。着重介绍了借助微机实现可控硅正向通态饱和压降的测量原理
【作 者】
:
周世标
【机 构】
:
上海第二工业大学
【出 处】
:
电测与仪表
【发表日期】
:
1990年6期
【关键词】
:
可控硅
通态饱和压降
测量方法
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本文叙述了合理选择RLC回路的参数,能够产生测试所需要的半波正弦脉冲电流,并分析了回路参数RLC对振荡状态的影响。着重介绍了借助微机实现可控硅正向通态饱和压降的测量原理、方框图和方法。
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