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论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０－２５μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计
【摘 要】
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论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０－２５μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
【机 构】
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福州大学机械工程系
【出 处】
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福州大学学报：自然科学版
【发表日期】
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1995年6期
【基金项目】
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电子工业部资金资助
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