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注入离子浓度的均匀性
注入离子浓度的均匀性
来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kxh8l
【摘 要】
:
本文讨论了在靶上获得所需要的均匀离子密度的离子束扫描条件。引用已经确认的多种分布模型:借助余弦曲线或标准分布曲线,发现可以减少扫描条数。同时给出了离子密度非均匀性
【作 者】
:
田村昌三
何玉山
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
1974年12期
【关键词】
:
离子密度
平均宽度
余弦曲线
离子束
离子注入
不均匀度
密度分布
离子浓度
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本文讨论了在靶上获得所需要的均匀离子密度的离子束扫描条件。引用已经确认的多种分布模型:借助余弦曲线或标准分布曲线,发现可以减少扫描条数。同时给出了离子密度非均匀性的测量方法,并介绍了一些实验结果。
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