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ICP—AES法测定硅铁中痕量元素
ICP—AES法测定硅铁中痕量元素
来源 :分析试验室 | 被引量 : 0次 | 上传用户:r9kobe24
【摘 要】
:
采用电感耦合等离子原子发射光谱法测定硅铁中的痕量元素,研究了 Fe 基体对被测元素的影响,并选择了最佳工作条件.被测元素的检测限为 0 .60~76.2 ng/mL,样品加标回收率为 92%
【作 者】
:
艾军
【机 构】
:
武汉化工学院分析测试中心
【出 处】
:
分析试验室
【发表日期】
:
2001年5期
【关键词】
:
电感耦合等离子原子发射光谱
硅铁
痕量元素
测定
分析
Inductively coupled plasma atomic emission spectrome
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采用电感耦合等离子原子发射光谱法测定硅铁中的痕量元素,研究了 Fe 基体对被测元素的影响,并选择了最佳工作条件.被测元素的检测限为 0 .60~76.2 ng/mL,样品加标回收率为 92%~108%,RSD(n=8)<3%.
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