【摘 要】
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Iridium thin films have been deposited on SigN4(100 nm)/Si(100)substrates by magnetron sputtering.And then iridium film micro-patterns were fabricated by ion mi
【机 构】
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State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing Wuhan University
【出 处】
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Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science
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Iridium thin films have been deposited on SigN4(100 nm)/Si(100)substrates by magnetron sputtering.And then iridium film micro-patterns were fabricated by ion milling technique.The atomic force microscopy(AFM)measurements reveal that there is a very fiat and smooth surface with an average roughness of 0.64 nm for the iridium films.The X-ray diffraction also reveals that the deposited iridium films have a polycrystalline microstructure with(111)plane preferential orientation.The electrical resistivity of the iridium films was also measured and discussed.
Iridium thin films have been deposited on SigN4 (100 nm) / Si (100) substrates by magnetron sputtering. And then iridium film micro-patterns were fabricated by ion milling technique. Atomic force microscopy (AFM) measurements reveal that there is a very fiat and smooth surface with an average roughness of 0.64 nm for the iridium films. X-ray diffraction revealed that the deposited iridium films had a polycrystalline microstructure with (111) plane preferential orientation. electrical resistivity of the iridium films was also measured and discussed.
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